Доброго времени суток!
Стоит цель: получить равномерное покрытие TiO2 на проводящем стекле (Обычное стекло с покрытием оксида свинца индия (indium tin oxide, ITO)). Покрытие нужно для того, что бы в дальнейшем спечь его при 500 градусах, охладить и осадить на него редокс-активные белки (разные, задач много). Желаемая толщина покрытия - порядка нескольких микрометров. Будет использоваться нанопудра диоксид титана с диаметром частиц около 21нм (смесь анатаза и рутила,соотношение одного к другому неизвестно). Нашел в литературе такую, уже часто использующуюся методику, как электрофоретичсекое осаждение.
Суть метода, на сколько я понял, проста. Берутся два электрода: мое ITO-стекло (25х25х0,7мм) и какой-то инертный электрод, погружаются в электролит, содержащий взвешенные частицы TiO2 и между электродами подается постоянное напряжение. наночастицы диоксида титана в зависимости от pH среды обладают в общем случае не нулевым суммарным зарядом и перемещаются под действием поля в одну сторону.
Имеется источник, потенциостат, который может выдавать около 10В.
Вопрос:
1) на сколько данная система вообще может работать?
2) какой должен быть второй электрод, и что можно использовать в качестве собственно ячейки в которой будет происходит осаждения, можно ли использовать камеру для электролиза (т.е. как организовать саму процедуру осаждения))))?
P.S. Не специалист в электрохимии от слова совсем, поэтому извиняйте если ошибся темой, но у кого-то же нужно спросить))