Английское название процесса:
Chemical vapour deposition of coatings или physical vapour deposition, а так же evaporation.
Описание процесса:(краткий вариант)
Вапоризация (испарение) цветных металлов (золота) в вакууме путём плазменного, лазерного или индукционного нагрева, при давлении в 0,01–10 hPa, для последуещего нанесения его путём кондесации на твёрдую поверхность, в нашем случае кремниего вафера будущего микрочипа в целях создания контактов полупроводника.
Вопрос знатокам:8-)
Какой химический элемент (соединение химических элементов) может быть использованн в выше описанном процессе возможно упрощая его, который не влияет на физические или химические свойства золота тем самым не ухудшая качество продукции или даже возможно улучшая его , но может быть без проблем выявлен в обычном процессе афинажа оставшегося после вапоризации металла (золота)?
Из ответа должны быть исключенны металлы используемые в ювелирной промышленности: Платина, Палладий, Ирридий, Кадмий, Серебро, Никель и.т.д.