Перейти к публикации
Форум химиков на XuMuK.ru

Рекомендованные сообщения

Добрый день и с праздниками!

Заранее извиняюсь, если подобные мне олени уже задавали этот вопрос, но поиском не нашёл.

Попался вопрос в викторине с ответом, что вещества с формулой HCOHSH не существует. Банальные химические знания вроде позволяют предположить, что для S(3) при его двойной связи с С, такая формула возможна. Или всё-таки реально невозможно получить подобное соединение в наш век, когда космические корабли бороздят, а атомы двигают пинцетом)))

 

 

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

dmr, да, спасибо, не сообразил (школьные знания уже испаряются), и доверился википедии: "К сераорганическим соединениям S(III) относятся: сульфониевые соединения, илиды серы...". Т.е. возможны только какие-то неустойчивые соединения?

aversun, вроде эта формула не соответствует развёрнутому виду HCOHSH.

Вообщем, как я понимаю, вопрос вполне или относительно корректный, зря я терзался сомнениями).

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
Метилсульфенил Methylsulfinyl CH3OS (CAS 25683-64-1)

25683-64-1.gif

http://www.guidechem.com/reference/dic-776510.html

Я конечно в сто тысяч раз меньше знаю химию, чем Вы, но поискал в справочнике по слову СУЛЬФИНИЛ все трехвалентны

http://chemister.ru/Database/list-substances.php?substance=%D1%F3%EB%FC%F4%E8%ED%E8%EB

И по слову СУЛЬФИНИЛ все двухвалентны

http://chemister.ru/Database/list-substances.php?substance=%D1%D3%CB%DC%D4%C5%CD%C8%CB&substance2=%D1%F3%EB%FC%F4%E8%ED%E8%EB

Наверное имеется ввиду именно радикал, который при первой же возможности за контактит или метил или хлорид какой нибудь

 

Радикалы в целом наверное можно интерпретировать как вещества хз

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Я конечно в сто тысяч раз меньше знаю химию, чем Вы

В смысле органической химии я не большой специалист, т.к. никогда ей не занимался. Показал это соединение только потому, что оно имеет CAS-номер, т.е. существует. Судя по его графической формуле -- это радикал. Но и радикалы бывают достаточно стабильны, например трифенилметил.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Бывают ли радикалы в макро количествах интересно?

А не как промежуточные ЧАСТИЦЫ в хим.реакции?

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Бывают ли радикалы в макро количествах интересно?

А не как промежуточные ЧАСТИЦЫ в хим.реакции?

В Новосибирском  НИОХ СО РАН занимаются стабильными свободными радикалами, и складывают их в баночки

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Тиомуравьиная кислота существует, причём в виде двух изомеров, также описаны производные:

 

RCB_CT,456591Entry Name: Thioformic acid, 8CI
Synonym(s): Methanethioic acid, 9CI
Chapman  Hall Number: CTC12-L
CAS Registry Number: 16890-80-5
 HC(O)SH HC(S)OH

Molecular Formula: CH2OS
Molecular Weight: 62.092
Accurate Mass: 61.982635
Percentage Composition: C 19.34%; H 3.25%; O 25.77%; S 51.64%
Physical Description: Unstable liq.
Melting Point: Mp 68
Boiling Point: Bp15 5
Solubility: Sol. CHCl3, CH2Cl2, H2O
Density: d204 1.34
Refractive Index: n20D 
RCB_CT,456592Derivative: Na salt
Chapman  Hall Number: MRR42-J
CAS Registry Number: 34575-44-5
Physical Description: Hygroscopic cryst.
Melting Point: Mp 204
RCB_CT,456593Variant: SH-form
Chapman  Hall Number: MGM34-K
Molecular Formula: CH2OS
Molecular Weight: 62.092
Accurate Mass: 61.982635
Percentage Composition: C 19.34%; H 3.25%; O 25.77%; S
RCB_CT,456594Derivative: Me ester
Synonym(s): S-Methyl thioformate
Chapman  Hall Number: MRR43-K
CAS Registry Number: 27798-35-2
Molecular Formula: C2H4OS
Molecular Weight: 76.119
Accurate Mass: 75.998285
Percentage Composition: C 31.56%; H 5.30%; O 21.02%; S 42.13%
Physical Description: Liq.
Boiling Point: Bp 89
RCB_CT,456595Derivative: Benzyl ester
Synonym(s): S-Benzyl thioformate
Chapman  Hall Number: CTC13-M
CAS Registry Number: 32779-85-4
Molecular Formula: C8H8OS
Molecular Weight: 152.217
Accurate Mass: 152.029585
Percentage Composition: C 63.13%; H 5.30%; O 10.51%; S 21.07%
Boiling Point: Bp26 109-111
RCB_CT,456596Variant: OH-form
Chapman  Hall Number: MGM33-J
Molecular Formula: CH2OS
Molecular Weight: 62.092
Accurate Mass: 61.982635
Percentage Composition: C 19.34%; H 3.25%; O 25.77%; S
RCB_CT,456597Derivative: Me ester
Synonym(s): O-Methyl thioformate
Chapman  Hall Number: MRR44-L
CAS Registry Number: 32872-40-5
Molecular Formula: C2H4OS
Molecular Weight: 76.119
Accurate Mass: 75.998285
Percentage Composition: C 31.56%; H 5.30%; O 21.02%; S 42.13%
Physical Description: Yellow liq.
Other Data: Polym. rapidly at
RCB_CT,456598Derivative: Et ester
Synonym(s): O-Ethyl thioformate
Chapman  Hall Number: HCS09-F
CAS Registry Number: 29392-46-9
Use/Importance: Used for prepn. of thioformamides
Physical Description: Yellow liq.
Melting Point: Mp 87-89
Other Data: Stable under N2 at 20
RCB_CT,456599Derivative: Amide
 see Thioformamide, DHK53-R
Chapman  Hall Number: HBK61-
References:
Gattow, G. et al., Angew. Chem., Int. Ed., 1971, 10, 415, (synth)
Engler, R. et al., Z. Anorg. Allg. Chem., 1972, 388, 78, (synth, esters, ir)
Hocking, W.H. et al., Z. Naturforsch., A, 1976, 31, 438, (struct)
Kalinowski, H.O. et al., J. Chem. Res., Synop., 1978, 260, (pmr)
Org. Synth., 1979, 59, 183, (Et ester)
Stowell, J.C. et al., J.O.C., 1989, 54, 1212, (Et ester, synth, use)
Della Vdova, C.O. et al., J. Raman Spectrosc., 1991, 22, 291, (ir, Raman)

 

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Присоединяйтесь к обсуждению

Вы можете опубликовать сообщение сейчас, а зарегистрироваться позже. Если у вас есть аккаунт, войдите в него для написания от своего имени.
Примечание: вашему сообщению потребуется утверждение модератора, прежде чем оно станет доступным.

Гость
Ответить в тему...

×   Вставлено в виде отформатированного текста.   Вставить в виде обычного текста

  Разрешено не более 75 эмодзи.

×   Ваша ссылка была автоматически встроена.   Отобразить как ссылку

×   Ваш предыдущий контент был восстановлен.   Очистить редактор

×   Вы не можете вставить изображения напрямую. Загрузите или вставьте изображения по ссылке.

Загрузка...

  • Сейчас на странице   0 пользователей

    Нет пользователей, просматривающих эту страницу.

×
×
  • Создать...