Перейти к публикации
Форум химиков на XuMuK.ru
Mikeo

Окисление кремния

Рекомендованные сообщения

Подскажите нубу:

 

Надо научиться выращивать слой окисла на кремнии (ну, или другого диэлектрика), толщина - 0.02-0.2мкм.

Понятно что на воздухе само нарастает 0.002мкм, а больше - в печке(1000C+, 1час+), собственно на производстве и не паряться.

 

Есть ли какой способ обойтись комнатной температурой? (ни к чему лишний температурный стресс, ну и хотелось бы упростить процесс)

 

Повторюсь, конкретный тип диэлектрика не важен.

Нужно было бы 0.5-1мкм - прямо из фоторезиста бы и сделал, а вот 0.05 так не сделать (по крайней мере на коленке).

 

Какие есть идеи?

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение
Гость derba

Подскажите нубу:

 

Надо научиться выращивать слой окисла на кремнии (ну, или другого диэлектрика), толщина - 0.02-0.2мкм.

Понятно что на воздухе само нарастает 0.002мкм, а больше - в печке(1000C+, 1час+), собственно на производстве и не паряться.

 

Есть ли какой способ обойтись комнатной температурой? (ни к чему лишний температурный стресс, ну и хотелось бы упростить процесс)

 

Повторюсь, конкретный тип диэлектрика не важен.

Нужно было бы 0.5-1мкм - прямо из фоторезиста бы и сделал, а вот 0.05 так не сделать (по крайней мере на коленке).

 

Какие есть идеи?

Попробовать озоном. На одном предприятии так из белых тэнов, для электроплиток делают золотистые, такие тэны почему то дороже стоят.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Если плёнка диэлектрика сплошная, плотная, то кинетика её образования лимитируется не силою окислителя, а диффузией кислорода сквозь неё, и тут кроме температуры ничего на ум не приходит. Разве что получать диэлектрик не окислением кремния, а осаждением чего-либо. Правда, в случае металла, возможно электрохимическое оксидирование.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Понятно, спасибо...

А какие есть идеи по поводу диэлектриков, которые можно осаждать тонкими слоями без температур >500C?

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Подскажите нубу:

 

Надо научиться выращивать слой окисла на кремнии (ну, или другого диэлектрика), толщина - 0.02-0.2мкм.

Понятно что на воздухе само нарастает 0.002мкм, а больше - в печке(1000C+, 1час+), собственно на производстве и не паряться.

 

Есть ли какой способ обойтись комнатной температурой? (ни к чему лишний температурный стресс, ну и хотелось бы упростить процесс)

 

Повторюсь, конкретный тип диэлектрика не важен.

Нужно было бы 0.5-1мкм - прямо из фоторезиста бы и сделал, а вот 0.05 так не сделать (по крайней мере на коленке).

 

Какие есть идеи?

 

 

Есть нубская идея: растворами для травления (особенно если у тебя монокремний). Попробуй слабой азотной кислотой - она неплохо доокислит всё на поверхности. Если хочется равномерности - то сначала 5 % плавиковой в течение 30-35 секунд, потом промыть водой и высушить, а потом уже азоткой.

 

Понятно, спасибо...

А какие есть идеи по поводу диэлектриков, которые можно осаждать тонкими слоями без температур >500C?

 

не знаю пригодится ли, но вроде так пробовали (даже с масками) и у нас неплохо получалось, но это "на колене". Итак, раствор полимера (акрилаты, полистирол) с концентрацией 2-5 масс. %. Пластину опустить в раствор, а затем вытащить и аккуратно положить на воздух сушиться. Излишек раствора перед этим слить. На пластине оседает очень тонкий слой полимера, цвет поверхности становится темнее за счёт перекрытия микронеровностей.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Есть нубская идея: растворами для травления (особенно если у тебя монокремний). Попробуй слабой азотной кислотой - она неплохо доокислит всё на поверхности. Если хочется равномерности - то сначала 5 % плавиковой в течение 30-35 секунд, потом промыть водой и высушить, а потом уже азоткой.

 

Ммм, не понятно... Кремний же с азотной не реагирует вообще :-S

Только с HF, или я чего-то не знаю?

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Ммм, не понятно... Кремний же с азотной не реагирует вообще :-S

Только с HF, или я чего-то не знаю?

 

Азотная кислота окисляет даже кремний:

Si + 4HNO3 = SiO2 + 4NO2 + 2H2O

Однако полного растворения кремния при этом не происходит, так как, едва начавшись, реакция быстро прекращается, поскольку образующийся на поверхности кристаллический SiO2 препятствует дальнейшему протеканию реакции, т.е. происходит пассивация. Но ведь именно это вам и нужно.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Азотная кислота окисляет даже кремний:

Si + 4HNO3 = SiO2 + 4NO2 + 2H2O

Однако полного растворения кремния при этом не происходит, так как, едва начавшись, реакция быстро прекращается, поскольку образующийся на поверхности кристаллический SiO2 препятствует дальнейшему протеканию реакции, т.е. происходит пассивация. Но ведь именно это вам и нужно.

 

Да, очень интересная реакция. А там NO2 случайно пленку не разрывает иногда?

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Да, очень интересная реакция. А там NO2 случайно пленку не разрывает иногда?

 

Если бы разрывал, реакция шла бы до конца, и ни какого пассивирования не было бы. Кстати, чистая HF на кремний не действует, действует только ее смесь с HNO3, и именно по этому механизму, т.е. азотная окислятет, плавиковая растворяет окисел. Такую смесь и используют для травления кремния (правда, для смягчения действия, добавляют уксусную кислоту. Оксидировать кремний может и газообразный NO2.

Поделиться сообщением


Ссылка на сообщение

Присоединяйтесь к обсуждению

Вы можете опубликовать сообщение сейчас, а зарегистрироваться позже. Если у вас есть аккаунт, войдите в него для написания от своего имени.
Примечание: вашему сообщению потребуется утверждение модератора, прежде чем оно станет доступным.

Гость
Ответить в тему...

×   Вставлено в виде отформатированного текста.   Вставить в виде обычного текста

  Разрешено не более 75 эмодзи.

×   Ваша ссылка была автоматически встроена.   Отобразить как ссылку

×   Ваш предыдущий контент был восстановлен.   Очистить редактор

×   Вы не можете вставить изображения напрямую. Загрузите или вставьте изображения по ссылке.

Загрузка...

  • Сейчас на странице   0 пользователей

    Нет пользователей, просматривающих эту страницу.

×
×
  • Создать...