Mikeo

Да, очень интересная реакция. А там NO2 случайно пленку не разрывает иногда?

Ммм, не понятно... Кремний же с азотной не реагирует вообще :-S Только с HF, или я чего-то не знаю?

Понятно, спасибо... А какие есть идеи по поводу диэлектриков, которые можно осаждать тонкими слоями без температур >500C?

Подскажите нубу: Надо научиться выращивать слой окисла на кремнии (ну, или другого диэлектрика), толщина - 0.02-0.2мкм. Понятно что на воздухе само нарастает 0.002мкм, а больше - в печке(1000C+, 1час+), собственно на производстве и не паряться. Есть ли какой способ обойтись комнатной температурой? (ни к чему лишний температурный стресс, ну и хотелось бы упростить процесс) Повторюсь, конкретный тип диэлектрика не важен. Нужно было бы 0.5-1мкм - прямо из фоторезиста бы и сделал, а вот 0.05 так не сделать (по крайней мере на коленке). Какие есть идеи?

Это как раз решаемые проблемы - структура выправляется отжигом, легирование - легированием :-) Но по возможности нужен максимально чистый результат. А вот нигма уверяет что для реакции с водой нужно 400—500°C. Да и в воде постоянно пластины моют на производстве и ничего.

В промышленных масштабах ничего не измениться. Сейчас килограм сверхчистого кремния полупроводникового качества стоит порядка 1000$, а из килограма можно столько всего наделать... В данном случае я пытаюсь решить проблему нанесения пленки аморфного кремния в обход силана - что дешево, но сложновато для лабороторного применения.

Было бы интересно посмотреть :-) Так епрст, соберите сами из элементов Пельтье :-) Тут никакой мистики нету :-)

Пока конкретных целей нет, но в случае успеха и для этого можно.

Возможно ли гальваническое покрытие кремнием? Понятно, что на первый взгляд, подходящих солей не видно. хлориды и фториды - реагируют с водой. Могут ли помочь другие растворители? А например элетролиз жидкого SiCl4 без растворителя возможен? Можно ли тут что-то придумать? Понятно что просто не получится, но быть может есть какой-то способ, технически проще чем испарение кремния в вакуме или разложение силана в плазме :-)

На просторах интернета нашел еще интересный путь: – алкилсилановые (их несколько модификаций – технический кремний в присутствии медного катализатора реагирует с безводным этиловым (метиловым) спиртом при 300С с последующим разложением продукта реакции до моносилана. В Японии уже этот метод используется, в СССР он разработан давно, но далее лабораторных экспериментов дело не продвинулось; Может кто-нибуть прокомментировать?

Большое спасибо... Все уже выглядит радужнее... А подскажите какие есть способы эфективного осушения хлора без помощи концентрированной серной кислоты? Поможет ли перегонка избавится от растворенного хлора в тетрахлориде кремния?

Отвечу как не химик пару очевидных мыслей : 1) С точки зрения физической нагрузки между вакуумом 10мм и 0.01мм разница всего в 1.5% ( =примерно килограм на 1 см^2 поверхности), не понимаю почему все акцентируют внимание на 10мм. Я лично с пузырьком 2мм не рисковал бы, и в любом случае - любой нагрев как можно равномернее. 2) Практически любую трубку крайне трудно раздавить от вакуума внутри (ровно потому же, почему трудно раздавить яйцо с "острого конца"). Главное - равномерная температура.

Имею ввиду что хлор реагирует с кремнием напрямую :-)

Тогда посмотрим внимательнее сюда: Четыреххлористый кремний - оказывается удобен, реагирует напрямую с кремнием, удобен для очистки ректификацией - на водяной бане и водяных холодильниках можно все на поток ставить ) Ну и поскольку он жидкий, с реакцией с LiAlH4 проблем не будет. Остается лишь уточнить условия, при которых кремний реагирует с хлором, подскажите?

Пока не понятно как это будет работать - какие при этом идут реакции? И говоря "сплавлять" вы имеете ввиду 1700С? :-)