Алексей-неорганик Опубликовано 14 Мая, 2014 в 13:57 Поделиться Опубликовано 14 Мая, 2014 в 13:57 Могло бы подойти химическое паровое осаждение из газовой фазы (CVD). Так можно получить слои толщиной от нескольких сотен нм до нескольких микрон. В качестве исходника годится какой-нибудь летучий органокомплекс меди. Аппаратура "средней" сложности (2-зонная печка, кварцевая трубка), зато на выходе можно получить высокое качество покрытия. Ссылка на комментарий
ivasi Опубликовано 14 Мая, 2014 в 15:50 Поделиться Опубликовано 14 Мая, 2014 в 15:50 (изменено) Наиболее простейшим аппаратом для напыления металлов, кремния и проводящих оксидов является магнетронный распылитель. Изменено 14 Мая, 2014 в 15:50 пользователем ivasi Ссылка на комментарий
ivasi Опубликовано 15 Мая, 2014 в 06:07 Поделиться Опубликовано 15 Мая, 2014 в 06:07 Технология напнесения пленки CuO http://www.scirp.org/journal/PaperDownload.aspx?paperID=5573 Ссылка на комментарий
Рекомендуемые сообщения
Для публикации сообщений создайте учётную запись или авторизуйтесь
Вы должны быть пользователем, чтобы оставить комментарий
Создать аккаунт
Зарегистрируйте новый аккаунт в нашем сообществе. Это очень просто!
Регистрация нового пользователяВойти
Уже есть аккаунт? Войти в систему.
Войти