Силсесквиоксан водорода синтез

[АндрейФ]

Здравствуйте. Существует резист для электронно лучевой литографии - силсесквиоксан водорода. Скажите пожалуйста, какие на ваш взгляд могут быть методы его синтеза?
Краткая выдержка из вики:
 

Цитата

Силсесквиоксан водорода (англ. HSQ) — полимерное кремнийорганическое соединение с общей формулой (HSiO_3/2)_8n^[1], применяемое как негативный резист c добавлением метилизобутилкетона в электронно-лучевой литографии. Применяется как заменитель ПММА. При толщине плёнки резиста менее 25 нм демонстрирует разрешение лучше чем 10 нм. Электронный пучок разрушает полимерную цепь превращая резист в аморфный оксид кремния, используемого для стойкой к плазменному травлению маски. NaOH или NH₄OH действуют как проявитель на силсесквиоксан водорода в результате чего происходит выделение водорода. Резист очень чувствителен к старению, поэтому для свежеприготовленного вещества получается лучшее разрешение с шириной линии 10 нм^[4].

Резист не используется в чистом виде, а обычно растворяется в метил изобутил кетоне 1-20 % по весу (Dow Corning XR-1541). Хранится до полугода при 5 °C^[5].

 

[chemister2010]

Аккуратный гидролиз трихлорсилана.