Чем заменить гидроксид холина для травления Si не повреждая SiO2?

[Cyber]

Чем заменить гидроксид холина?

Гидроксид холина используем для травления кремния. Но пр этом SiO2 нужно оставлять абсолютно нетронутым. Гидроксид холина как раз имеет соотношения травление Si к травлению SiO2 примерно 5000:1.

Нужно что-то подобное найти. Нужно что-то с менее неприятным запахом и что проще достать.

NaOH и KOH пробовали при разных температурах и концентрациях, кремний травится не равномерно и SiO2 в итоге все равно местами подъедается.  

 

И где-то в каком-то патенте или статье читал(уже не могу найти), что к гидроксид холину добавляют какой-то "цитрусовый концентрат"(цитрон) или что-то подобное, чтоб перебить неприятный запах. Что химики используют для нейтрализации запахов?

 

[Paul_S]

Наверно, подойдут гидроксиды других четвертичных аммониевых оснований - тетраметил-, тетраэтиламмония. Их растворы практически не пахнут. И гидроксид холина тоже не должен, т.к. и он тоже гидроксид четверичного аммония. Это примеси в нем воняют. Триметиламин, наверно.

В принципе, можете попробовать конц. р-р аммиака. Он воняет и это будет очень медленно, зато дешево.

[Solovey]

В 25.10.2024 в 07:16, Paul_S сказал:

В принципе, можете попробовать конц. р-р аммиака.

Он прекрасно подтравливает SiO₂

[Paul_S]

В 25.10.2024 в 07:34, Solovey сказал:

Он прекрасно подтравливает SiO₂

Странно. Силикат аммония разве существует?

[Solovey]

В 25.10.2024 в 07:36, Paul_S сказал:

Странно. Силикат аммония разве существует?

Без понятия какой там механизм. Просто я уже 5 лет с этой хренью работаю, на 50 крат прекрасно видны растравы если раствор слишком конц. или большое время воздействия.

[Arkadiy]

В 25.10.2024 в 07:36, Paul_S сказал:

Странно. Силикат аммония разве существует?

Гидроксиды ЧАС - сильные основания типа NaOH, гораздо сильнее NH4OH

В 25.10.2024 в 03:24, Cyber сказал:

Чем заменить гидроксид холина?

Гидроксид холина используем для травления кремния. Но пр этом SiO2 нужно оставлять абсолютно нетронутым. Гидроксид холина как раз имеет соотношения травление Si к травлению SiO2 примерно 5000:1.

Нужно что-то подобное найти. Нужно что-то с менее неприятным запахом и что проще достать.

NaOH и KOH пробовали при разных температурах и концентрациях, кремний травится не равномерно и SiO2 в итоге все равно местами подъедается.  

 

И где-то в каком-то патенте или статье читал(уже не могу найти), что к гидроксид холину добавляют какой-то "цитрусовый концентрат"(цитрон) или что-то подобное, чтоб перебить неприятный запах. Что химики используют для нейтрализации запахов?

 

тетраметиламмонием гидроксидом

[Эрик697]

В 25.10.2024 в 04:24, Cyber сказал:

Чем заменить гидроксид холина?

Гидроксид холина используем для травления кремния. Но пр этом SiO2 нужно оставлять абсолютно нетронутым. Гидроксид холина как раз имеет соотношения травление Si к травлению SiO2 примерно 5000:1.

Нужно что-то подобное найти. Нужно что-то с менее неприятным запахом и что проще достать.

NaOH и KOH пробовали при разных температурах и концентрациях, кремний травится не равномерно и SiO2 в итоге все равно местами подъедается.  

 

И где-то в каком-то патенте или статье читал(уже не могу найти), что к гидроксид холину добавляют какой-то "цитрусовый концентрат"(цитрон) или что-то подобное, чтоб перебить неприятный запах. Что химики используют для нейтрализации запахов?

 

Ионные жидкости были включены в программу разработок наряду с использованием свч химии, кавитации и ультразвука. На ионных жидкостях дрова прекрасно превращаются в сжиженную форму. Вы располагаете бюджетом для подобных разработок?

[yatcheh]

В 25.10.2024 в 21:46, Эрик697 сказал:

Вы располагаете бюджетом для подобных разработок?

 

Как сказал один грустный технолог - "бюджет есть, денег нету" 

[Эрик697]

Ну да, кадровый голод, никто за 40ку не идет ишачить

[Paul_S]

В 25.10.2024 в 21:37, Arkadiy сказал:

Гидроксиды ЧАС - сильные основания типа NaOH, гораздо сильнее NH4OH

тетраметиламмонием гидроксидом

Аркадий, если Вы умеете читать, то можете увидеть, что я и предлагал в качестве оснований "гидроксиды других четвертичных аммониевых оснований - тетраметил-, тетраэтиламмония".

Но в каждом деле есть свой нюанс. Вероятно, на процесс влияет не только концентрация гидроксид-ионов, но и характер катиона. Способность как-то координироваться с силикатным субстратом. Поэтому есть резон попробовать и обычный водный раствор аммиака.